ELEKTRONOLITOGRAFIJA

Ištrauka

ELEKTRONOLITOGRAFIJA
Referatas

Turinys
Įvadas 3
1.1 Elektronolitografijos technologija 4
1.2 Elektronų išsklaidymas 5
1.3 Artumo efektas 8
2. Projekcinė elektronolitografija 10
3. Nuoseklaus eksponavimo elektronolitografijos technologija 11
Išvados 13
Literatūra 14

Įvadas
Litografija yra šiuolaikinės integrinių grandynų gamybos kertinis akmuo.Našumo ir
defektų tankio problemą lemią kankurencija puslaidininkių pramonėje.Gamybos našumas turi
tiesioginės įtakos gamybos savikainai, o defektai, kurie atsiranda litagrafinių procesų metu, jį
mažina. Varomasis veiksnys yra nuolatinis prietaisų ir jų elementų matmenų mažinimas.
Fotolitografijoje elektronų spindulių sistemos fotošablonų gamybai buvo naudojamas daugelį
metų. Be to, daugelį metų šį technologija buvo vienas iš pažangių pažangių prietaisų tyrinėjimo
metodų, nes elektronų spindulių įrenginų yra puiki skiriamoji geba, jų naudojamos elektronų
bangos iligis apie 0,1 nm, taigi difrakcijos efektas čia nepasireiškia. Taigi šiame darbe bus
aprašamos elektronolitagrafijos technologija. Nors dabar praktiškai elektronų litagrafija yra
naudojama gana rėtai, visgi jų koncepcija yra gana paprasta. Elektronų litagrafija tinka
superdideliems IG su ypač mažais elementų matmenemis gaminti. Be to, darant elektronų
litografija, piešinį reziste galima gauti ir be šablono.

1.1 Elektronolitografijos technologija
Elektronolitografija – tai toks integrinių grandynų elementų piešinio gavimo būdas, kai rezisto
sluoksnis ant puslaidininkinės plokštelės ekspanuojamas elektronų pluoksteliu.
Elektronolitografijoje rezistas yra eksponuojamas elektronų pluošteliu. Šiai litografijos
technologijai yra būdinga labai didelė skiriamoji geba, nes elektronų pluoštelio bangos ilgis yra
žymiai mažesnis už UV spindulių. Jį galima apskaičiuoti taip: